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310 一脸懵逼（第2页）

我给你简单介绍一下。

你要知道，光刻机技术，其实在七十年代就有了，原理并不复杂，相当于照相技术。

其难度，在于分辨率。

就如相机，几百万像素你可能觉得可以了。

而光刻机要达到几十亿像素，这就难了吧？”

郑国霖点点头，这个他能听懂。

可接下来，他又听不懂了。

“如何把更多的二极管集中在更小的晶圆上，让芯片实现更为复杂的远算功能。”

尼尔森说，“就相当于把一张只能容纳几百万像素的照片，变成可以容纳几十亿，甚至上百亿像素的照片。

就是说，让单位面积的晶圆上，尽量容纳更多的二极管。

现在市场上的光刻机，都是步进式进给，浸入式刻法，其理论最小线路宽度，在7nm以上。

能做到32nm，已经是兰光公司的极限了。

而ASML，已经将这个技术，发展到了16nm。

但他们也进入了极限状态，很难有任何提高了。”

郑国霖一脸懵逼。

尼尔森看到了他迷惑的眼神，不由微微笑一下说：“我没说任何专业术语，你还是听不懂，对不对？”

这还不是专业术语呢？

尼尔森就闭眼想想说：“好吧，我换一种说法。

兰光公司的这个浸入式设备，已经面临淘汰，迫使他不得不投入很多的资金和人才，来研究EUV光刻机。

而据说这个技术，ASML已经有了突破。”

“等等。”

郑国霖打断她问，“什么叫EUV？”

这个词他听着耳熟。

尼尔森回答说：“就是极紫外光。

你知道，光波越短，越容易被吸收掉。

这样，最终通过掩膜投影到晶圆镀膜上的光线，就很难达到要求的强度。

但越短的光波，分辨率就越好，可以在单位面积晶圆上，制造更多的二极管。

这个极紫外光，理论上可以达到3nm的线路宽度。